Se trata de un equipo de gama alta para la preparación de dispositivos optoelectrónicos de precisión ultraalta. Centrado en el revestimiento óptico de alta calidad, tiene un valor de dispersión y una densidad de defectos extremadamente bajos.
El grabado por haz de iones (IBE) es una técnica de capa fina que utiliza una fuente de iones para llevar a cabo procesos de eliminación de material en un sustrato. La EBI es un tipo de pulverización catódica por haz de iones y, tanto si se utiliza para...
Los equipos de haz de iones desempeñan un papel extremadamente importante en las industrias de alta tecnología debido a sus ventajas de alta precisión, bajo nivel de daños, versatilidad y respeto al medio ambiente, especialmente en los campos de la micro-nanofabricación, la ciencia de los materiales y la óptica de precisión.
Los equipos de haces de iones pueden proporcionar una precisión de posicionamiento y un control de la energía extremadamente altos, lo que hace posible el procesamiento a nanoescala. La capacidad de enfoque del haz de iones permite grabar o depositar materiales con precisión, lo que resulta crucial para la fabricación de componentes microelectrónicos, nanotecnológicos y ópticos.
En comparación con los tratamientos mecánicos o térmicos tradicionales, el tratamiento con haces de iones causa menos daños a los materiales. Como el haz de iones golpea la superficie con energía controlable, reduce la zona afectada por el calor y evita el sobrecalentamiento del sustrato, con lo que se mantienen las propiedades intrínsecas del material.
El grabado por haz de iones puede lograr la eliminación selectiva de materiales específicos, lo que es especialmente importante para el procesamiento fino de estructuras multicapa, permitiendo la eliminación precisa de los materiales superiores sin dañar las capas subyacentes.
Durante el procesado de grandes superficies, los equipos de haz de iones pueden proporcionar una excelente uniformidad, lo que resulta esencial para fabricar películas que requieren una calidad estricta de grosor y superficie.
Los equipos de haz de iones no sólo se utilizan para el grabado, sino también para la deposición asistida, como la deposición asistida por haz de iones (IBAD), lo que los hace muy flexibles para preparar películas con propiedades especiales, como los revestimientos de carbono tipo diamante (DLC).
Los haces de iones pueden utilizarse para limpiar y grabar sustratos, eliminando los contaminantes superficiales y proporcionando una superficie en mejores condiciones para la posterior deposición o unión.
La tecnología de haces de iones es adecuada para diversos materiales, como metales, cerámicas y semiconductores, lo que ofrece un amplio potencial de aplicación en diferentes sectores.
Controlando con precisión los parámetros del haz de iones, se pueden generar películas de gran pureza con defectos reducidos, lo que resulta crucial para la fabricación de componentes electrónicos y ópticos de alto rendimiento.
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