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Deposición asistida por haz de iones Evaporación Recubrimiento óptico

Se trata de un equipo de gama alta para la preparación de dispositivos optoelectrónicos de precisión ultraalta. Centrado en el recubrimiento óptico de alta calidad, tiene un valor de dispersión y una densidad de defectos extremadamente bajos. Adecuado para la producción de revestimientos de alta precisión en aplicaciones exigentes como láser, comunicación óptica, aeroespacial, biomédica, óptica de automoción, sensores MEMS y semiconductores pan.

Deposición asistida por haz de iones Evaporación Recubrimiento óptico

Cristal azul y cristal blanco IR- CUT, cristal azul y cristal blanco AR, lente de resina AR, prisma de ángulo recto de periscopio, etc.

  • Máquina estándar de producción en serie
  • Monitor en línea en tiempo real
  • Control óptico totalmente autónomo
  • Diseño de procesos abiertos
  • Fuente de iones RISE RF: la corriente del haz de iones es precisa y controlable, con un largo tiempo de trabajo continuo, adecuada para varios gases de trabajo y no contamina la capa de la película.
  • Fuente de plasma única: accionamiento por radiofrecuencia, funcionamiento sin consumibles, que proporciona iones de oxígeno puro, garantizando excelentes indicadores espectrales en bandas específicas.
  • Controlada por luz: Precisión de control de formación de película controlada por luz: 0,1-0,3%, con una estructura única y un diseño eficiente de la ruta óptica, recopilación en tiempo real de datos espectrales de ultra alta velocidad y algoritmo central inteligente controlado por luz desarrollado de forma independiente.
  • Sistema de control innovador: Arquitectura de sistema modular abierto, un sistema de control inteligente basado en ARM, experiencia de interacción hombre-máquina amigable, compatible con IoT y arquitectura de computación en la nube.

Modelo

OPIE1550

Sala de vacío

SUS304, φ1550mmx1600mm(H)

Sistema de vacío

4 bombas moleculares +1 juego de bomba mecánica/unidad de bomba de raíces

Portapiezas
y el disco de la pieza

diámetro del disco 1460 mm, velocidad de rotación 0-30 rpm

Fuente de vapor

2 juegos de pistolas electrónicas (pistolas duales, escaneo dual, filamentos duales, ángulo de desviación del haz de 270 grados, potencia 10KW)

Sistema de deposición

Fuente de iones de radiofrecuencia RISE + fuente de plasma especial (opcional)

Sistema de control

Sistema de control inteligente de la deposición al vacío

Sistema de control

Sistema de control del espesor de la película de cristal

configurado según requisitos específicos, configuración estándar

Sistema óptico de vigilancia en tiempo real de películas finas

sistema de control óptico de desarrollo propio (amplio espectro, longitud de onda única) opcional

Sistema de refrigeración profunda

potencia del compresor 10KW, temperatura de refrigeración de la batería<-130°C

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