Il s'agit d'un équipement haut de gamme pour la préparation de dispositifs optoélectroniques de très haute précision. Axé sur un revêtement optique de haute qualité, il présente une valeur de diffusion et une densité de défauts extrêmement faibles.
La gravure par faisceau d'ions (IBE) est une technique de couche mince qui utilise une source d'ions pour effectuer des processus d'enlèvement de matière sur un substrat. L'IBE est un type de pulvérisation par faisceau d'ions et, qu'elle soit utilisée pour...
Les équipements à faisceaux d'ions jouent un rôle extrêmement important dans les industries de haute technologie en raison de leurs avantages en termes de haute précision, de faibles dommages, de polyvalence et de respect de l'environnement, en particulier dans les domaines de la micro-nanofabrication, de la science des matériaux et de l'optique de précision.
Les équipements à faisceaux d'ions peuvent offrir une précision de positionnement et un contrôle de l'énergie extrêmement élevés, ce qui rend possible le traitement à l'échelle nanométrique. La capacité de focalisation du faisceau d'ions permet une gravure ou un dépôt précis des matériaux, ce qui est crucial pour la fabrication de composants microélectroniques, nanotechnologiques et optiques.
Comparé aux traitements mécaniques ou thermiques traditionnels, le traitement par faisceau d'ions endommage moins les matériaux. Comme le faisceau d'ions frappe la surface avec une énergie contrôlable, il réduit la zone affectée thermiquement et évite de surchauffer le substrat, préservant ainsi les propriétés intrinsèques du matériau.
La gravure par faisceau d'ions permet l'enlèvement sélectif de matériaux spécifiques, ce qui est particulièrement important pour le traitement fin des structures multicouches, permettant l'enlèvement précis des matériaux supérieurs sans endommager les couches sous-jacentes.
Lors du traitement de grandes surfaces, l'équipement à faisceau d'ions peut fournir une excellente uniformité, ce qui est essentiel pour la fabrication de films exigeant une épaisseur et une qualité de surface strictes.
L'équipement à faisceau d'ions n'est pas seulement utilisé pour la gravure, mais aussi pour le dépôt assisté, tel que le dépôt assisté par faisceau d'ions (IBAD), ce qui le rend très flexible pour la préparation de films aux propriétés spéciales, tels que les revêtements de carbone de type diamant (DLC).
Les faisceaux d'ions peuvent être utilisés pour nettoyer et graver les substrats, en éliminant les contaminants de surface et en améliorant l'état de la surface pour le dépôt ou le collage ultérieur.
La technologie du faisceau d'ions est adaptée à divers matériaux, notamment les métaux, les céramiques et les semi-conducteurs, ce qui offre un large potentiel d'application dans différentes industries.
En contrôlant précisément les paramètres du faisceau d'ions, il est possible de générer des films de haute pureté présentant peu de défauts, ce qui est crucial pour la fabrication de composants électroniques et optiques de haute performance.
Solution unique pour les machines SMT
Rm3A08 (4th Floor) Block D, Huashengtai Technology Park, No.36 Hangkong Road, Baoan District, Shenzhen City, China
2025 Tous droits réservés.