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Dépôt par évaporation assisté par faisceau d'ions pour le revêtement optique

Il s'agit d'un équipement haut de gamme pour la préparation de dispositifs optoélectroniques de très haute précision. Axé sur un revêtement optique de haute qualité, il présente une valeur de diffusion et une densité de défauts extrêmement faibles. Il convient à la production de revêtements de haute précision dans des applications exigeantes telles que le laser, la communication optique, l'aérospatiale, le biomédical, l'optique automobile, les capteurs MEMS et les semi-conducteurs de pan.

Dépôt par évaporation assisté par faisceau d'ions pour le revêtement optique

Verre bleu et verre blanc IR- CUT, verre bleu et verre blanc AR, lentille en résine AR, prisme à angle droit pour périscope, etc.

  • Machine standard pour la production de masse
  • Moniteur en ligne en temps réel
  • Contrôle optique entièrement autonome
  • Conception d'un processus ouvert
  • Source d'ions RISE RF : le courant du faisceau d'ions est précis et contrôlable, avec une longue durée de fonctionnement continu, adapté à divers gaz de travail et sans pollution pour la couche de film.
  • Source de plasma unique : entraînement par radiofréquence, fonctionnement sans consommables, fournissant des ions d'oxygène purs, garantissant d'excellents indicateurs spectraux dans des bandes spécifiques.
  • Contrôlé par la lumière : Précision du contrôle du formage du film contrôlé par la lumière : 0,1-0,3%, avec une structure unique et une conception efficace du chemin optique, une collecte en temps réel de données spectrales à très haute vitesse et un algorithme central intelligent contrôlé par la lumière développé de manière indépendante.
  • Système de contrôle innovant : Architecture modulaire ouverte, système de contrôle intelligent basé sur ARM, expérience d'interaction homme-machine conviviale, prise en charge de l'IoT et de l'architecture d'informatique en nuage.

Modèle

OPIE1550

Salle d'aspiration

SUS304, φ1550mmx1600mm(H)

Système de vide

4 pompes moléculaires +1 jeu de pompes mécaniques/unité de pompage racinaire

Porte-pièce
et le disque de la pièce

diamètre du disque de la pièce 1460mm, vitesse de rotation 0-30 rpm

Source de vapeur

2 jeux de pistolets électroniques (double pistolets, double balayage, double filament, angle de déviation du faisceau de 270 degrés, puissance 10KW)

Système de dépôt

Source d'ions à radiofréquence RISE + source de plasma spécial (en option)

Système de contrôle

Système de contrôle intelligent pour le dépôt sous vide

Système de surveillance

Le système de contrôle de l'épaisseur du film cristallin

configuré selon des exigences spécifiques, configuration standard

Système de surveillance en temps réel des couches minces optiques

Système de contrôle optique auto-développé (large spectre, longueur d'onde unique) en option

Système de refroidissement en profondeur

puissance du compresseur 10KW, température de refroidissement de la bobine<-130°C

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