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Si tratta di un'apparecchiatura di fascia alta per la preparazione di dispositivi optoelettronici di altissima precisione. Concentrandosi sul rivestimento ottico di alta qualità, ha un valore di dispersione e una densità di difetti estremamente bassi.
L'incisione a fascio ionico (IBE) è una tecnica di film sottile che utilizza una sorgente ionica per eseguire processi di rimozione di materiale su un substrato. L'IBE è un tipo di sputtering a fascio ionico e, sia che venga utilizzato per...
Le apparecchiature a fascio ionico svolgono un ruolo estremamente importante nelle industrie high-tech grazie ai loro vantaggi di alta precisione, basso danno, versatilità e rispetto dell'ambiente, in particolare nei campi della micro-nano produzione, della scienza dei materiali e dell'ottica di precisione.
Le apparecchiature a fascio ionico possono fornire una precisione di posizionamento e un controllo dell'energia estremamente elevati, rendendo possibile la lavorazione su scala nanometrica. La capacità di focalizzazione del fascio ionico consente un'incisione o un deposito preciso dei materiali, fondamentale per la produzione di componenti microelettronici, nanotecnologici e ottici.
Rispetto ai tradizionali trattamenti meccanici o termici, il trattamento con fascio ionico causa meno danni ai materiali. Poiché il fascio di ioni colpisce la superficie con un'energia controllabile, riduce la zona interessata dal calore ed evita il surriscaldamento del substrato, mantenendo così le proprietà intrinseche del materiale.
L'incisione a fascio ionico permette di ottenere la rimozione selettiva di materiali specifici, particolarmente importante per la lavorazione fine di strutture multistrato, consentendo la rimozione precisa dei materiali superiori senza danneggiare gli strati sottostanti.
Durante la lavorazione di grandi superfici, le apparecchiature a fascio ionico possono fornire un'eccellente uniformità, essenziale per la produzione di film che richiedono uno spessore e una qualità superficiale rigorosi.
Le apparecchiature a fascio ionico non sono utilizzate solo per l'incisione, ma anche per la deposizione assistita, come la deposizione assistita da fascio ionico (IBAD), che le rende altamente flessibili per la preparazione di film con proprietà speciali, come i rivestimenti di carbonio simile al diamante (DLC).
I fasci di ioni possono essere utilizzati per la pulizia e l'incisione dei substrati, rimuovendo i contaminanti superficiali e fornendo una migliore condizione della superficie per la successiva deposizione o incollaggio.
La tecnologia a fascio ionico è adatta a vari materiali, tra cui metalli, ceramiche e semiconduttori, e offre un ampio potenziale di applicazione in diversi settori.
Controllando con precisione i parametri del fascio di ioni, è possibile generare film di elevata purezza con difetti ridotti, un aspetto cruciale per la produzione di componenti elettronici e ottici ad alte prestazioni.
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