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LC608 Macchina per incisione laser completamente automatica

Questa serie di apparecchiature è stata progettata specificamente per le caratteristiche del taglio laser di wafer di substrato di silicio, utilizzando un laser UV e un sistema di percorso ottico esterno appositamente progettato, combinato con un sistema di posizionamento delle immagini CCD ad alta precisione e un controllo del movimento della piattaforma ad alta precisione per ottenere risultati di taglio precisi ed efficienti con quasi nessun residuo nella scanalatura di taglio.

LC608 Macchina laser completamente automatica Vantaggi

  • Tecnologia di taglio a più punti per una lavorazione efficiente e di alta qualità.
  • Carico e scarico completamente automatizzati per un funzionamento non presidiato.
  • Compatibile con la produzione di wafer da 2, 4 e 6 pollici.
  • Dotato di funzioni di applicazione automatica della colla e di pulizia.
  • Rettilineità e ripetibilità della piattaforma entro 1 micron.
  • In grado di eseguire funzioni tangenti e back-cut.

Principio di base

L'alta densità di energia del laser ultravioletto focalizzato provoca un rapido aumento della temperatura sulla superficie del materiale da lavorare, con conseguente fusione e vaporizzazione istantanea. In combinazione con il movimento della piattaforma, si creano tagli lineari sulla superficie del materiale per raggiungere l'obiettivo di taglio.

DSI-LC608 macchina automatica per la scriba laser

Larghezza e profondità di taglio

La potenza del laser (energia del singolo impulso) è il fattore principale che influenza la profondità e la larghezza di taglio. I test condotti su wafer di silicio hanno prodotto il grafico seguente, che illustra la relazione tra la potenza del laser e la profondità e la larghezza di taglio misurate. (Condizioni di prova: frequenza laser a 70 kHz, velocità di taglio a 250 mm/s, utilizzo della tecnologia di taglio multipunto).

Metodi di lavorazione

Taglio tangente + scissione

  • Taglio su un solo lato (non completamente passante) seguito da taglio diretto.
  • Applicabile per il taglio di alcuni wafer di silicio, per il taglio della ceramica e per il taglio del vetro con il silicio.

Taglio tangente + taglio posteriore + scollatura

  • Adatto per il taglio di chip di substrati a base di silicio.
  • Attualmente è il metodo di lavorazione principale per i chip con substrato a base di silicio.

Taglio completo (senza scissione)

  • Applicabile a substrati di silicio e a substrati in lega di rame e tungsteno.
  • Taglia in un'unica passata senza bisogno di scollare.
  • Rappresenta la tendenza futura nello sviluppo della lavorazione laser.

Macchina per incisione laser Aree di applicazione

Utilizzato principalmente per il taglio di wafer di silicio a luce rossa e gialla di LED, nonché per il taglio di materiali speciali come ceramica e metalli.

Substrato di wafer di silicio - Applicazioni GaN (Nitruro di Gallio).

DSI-L-SS1126 SIC Macchina spaccatrice completamente automatica

Substrati metallici

DSI-LC608 macchina automatica per la scriba laser

Lastre di ceramica

DSI-LC608 macchina automatica per la scriba laser

Pannelli solari

DSI-LC608 macchina automatica per la scriba laser

Substrati di SiC e vetro laminato

DSI-LC608 macchina automatica per la scriba laser

DSI-LC608 macchina automatica per la scriba laser

  • Dotata di una telecamera grandangolare per il riconoscimento automatico dei contorni
    Il caricamento non richiede la distinzione tra pezzi interi e rotti, eliminando la necessità di impostare i pezzi da rompere e di cercare i bordi, con un notevole risparmio di tempo durante l'operazione di rottura.

  • Sistema di taglio posteriore stabile
    Fornisce immagini stabili; in combinazione con la tecnologia double-sided (DD) di grandi dimensioni e con tecniche di taglio mature, è in grado di tagliare pezzi di wafer da 6 pollici.

  • Tecnologia multi-punto
    La macchina è dotata di lenti multi-punto che controllano efficacemente la rifusione, ottenendo migliori risultati di taglio. Questa tecnologia di taglio è leader nel settore.

  • Banco di lavoro ad alta precisione
    Il controllo completo ad anello chiuso garantisce che l'errore di spostamento nell'intera gamma di corse sia compreso entro ±1µm. Le eccellenti prestazioni di accelerazione e decelerazione migliorano efficacemente la capacità di uscita del sistema per unità di tempo.

  • Sistema stabile di pulizia e applicazione della colla di alta qualità
    La macchina è dotata di un sistema automatico di pulizia e applicazione della colla che la rende semplice e comoda da usare. Tutti i parametri per la pulizia e l'applicazione della colla sono monitorati in modo completo per garantire la qualità del taglio dei trucioli.

DSI-LC608 macchina automatica per la scriba laser

Prestazioni di lavorazione delle apparecchiature

Un gran numero di dispositivi sta funzionando in modo stabile in vari siti dei clienti, con prestazioni pienamente riconosciute e affermate.

  • Efficienza di taglio: Per wafer da 4 pollici (standard 4646), con un funzionamento di 22 ore al giorno, la macchina raggiunge una capacità di taglio di ≥45 pezzi al giorno sia per il taglio frontale che per quello posteriore.

  • Resa di taglio: La resa estetica dei pezzi tagliati è ≥98,5%, e la resa elettrica prima e dopo il taglio mantiene sostanzialmente una perdita nulla.

  • Stabilità delle apparecchiature: Il tasso di utilizzo delle apparecchiature è ≥98%, con un tasso di allarme controllabile a meno di 3 volte al giorno.

Configurazione principale

No.Nome del componenteOrigineModelloQuantitàFunzione e parametri
1LaserAutoprodotto/Acquistato3551Lunghezza d'onda: 355nm
Frequenza: Regolabile 0-500KHz
Potenza laser ≤ 15W
2Tavolo da lavoro XYAutoproduzione300600 XY1Corsa: 300600 mm
Precisione di posizionamento della ripetizione dell'asse Y ≤ 1μm
Verticalità (entro ±50 mm): ±1μm
Planarità: ±2μm
3Motore DDAcquistato/1Precisione di posizionamento assoluto: ±20 arcosec
Precisione di posizionamento a ripetizione: ±3 arcosec
Piattezza di montaggio ≤ 8μm
4CCDAcquistato/4CCD grandangolare: 1 con 5 milioni di pixel
CCD superiore: 2 con pixel da 130 W
CCD inferiore: 1 con 1,3 milioni di pixel
5Dispositivo di pulizia e rivestimentoAutoproduzione/1Pulizia e rivestimento automatici
Con monitoraggio del flusso di liquidi e acqua di protezione

Ambiente di lavoro

Questa apparecchiatura deve essere utilizzata in una camera bianca conforme allo standard ISO14644-1 di CLASSE ISO5 o superiore!

Requisiti di fabbrica

1Requisiti di alimentazione220V/Fase singola/50Hz/16A; fluttuazione dell'alimentazione: <5%
2Temperatura ambiente20~24℃; variazione della temperatura ±1℃
3Umidità ambientale40~70%; Nessuna condensa
4Aria compressa0,65~0,75MPa, diametro del tubo di interfaccia dell'apparecchiatura φ12
5Vuoto di fabbrica-0,06MPa ~ -0,08MPa, diametro del tubo di interfaccia dell'apparecchiatura φ8
6Acqua di raffreddamentoPer il refrigeratore utilizzare normale acqua purificata in bottiglia, da cambiare una volta al mese.
7Pressione dell'acqua di lavaggioPressione dell'acqua 0.15~0.3MPa, necessita di acqua filtrata, diametro del filtro ≤ 25μm
8Sistema di depurazione dei gas di scaricoInterfaccia dell'apparecchiatura diametro interno del tubo φ100 tubo corrugato
9Requisiti ambientali di vibrazioneAmpiezza della fondazione <5μm; accelerazione delle vibrazioni <0,05G
10Situazioni da evitareAree con presenza di rifiuti, polvere e nebbia d'olio;
Aree con vibrazioni e impatti significativi;
Aree in cui possono essere toccati farmaci e materiali infiammabili/esplosivi;
Aree vicine a fonti di interferenza ad alta frequenza;
Aree in cui le temperature possono cambiare bruscamente;
Ambienti con elevate concentrazioni di CO2, NOX, SOX, ecc.

Requisiti del sito

La distanza tra l'apparecchiatura e altre apparecchiature, o la distanza dalla parete, deve essere di almeno 800 mm.
Dimensioni dell'apparecchiatura: 1350x2170x1750 mm (L*L*H), l'altezza non include la luce tricolore.
Peso dell'apparecchiatura: 3 tonnellate (escluso il refrigeratore).

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