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Trata-se de equipamento topo de gama para a preparação de dispositivos optoelectrónicos de precisão ultra elevada. Centrando-se num revestimento ótico de alta qualidade, tem um valor de dispersão e uma densidade de defeitos extremamente baixos.
A gravação por feixe de iões (IBE) é uma técnica de película fina que utiliza uma fonte de iões para realizar processos de remoção de material num substrato. O IBE é um tipo de pulverização catódica por feixe de iões e, quer seja utilizado para...
O equipamento de feixe de iões desempenha um papel extremamente importante nas indústrias de alta tecnologia devido às suas vantagens de alta precisão, baixos danos, versatilidade e respeito pelo ambiente, particularmente nos domínios do micro-nano fabrico, ciência dos materiais e ótica de precisão.
O equipamento de feixe de iões pode proporcionar uma precisão de posicionamento e um controlo de energia extremamente elevados, tornando possível o processamento à nanoescala. A capacidade de focagem do feixe de iões permite uma gravação ou deposição precisa de materiais, o que é crucial para o fabrico de componentes microelectrónicos, nanotecnológicos e ópticos.
Em comparação com o processamento mecânico ou os tratamentos térmicos tradicionais, o tratamento por feixe de iões causa menos danos aos materiais. Uma vez que o feixe de iões atinge a superfície com uma energia controlável, reduz a zona afetada pelo calor e evita o sobreaquecimento do substrato, mantendo assim as propriedades intrínsecas do material.
A gravação por feixe de iões pode conseguir a remoção selectiva de materiais específicos, o que é particularmente importante para o processamento fino de estruturas multicamadas, permitindo a remoção precisa dos materiais superiores sem danificar as camadas subjacentes.
Durante o processamento de grandes áreas, o equipamento de feixe de iões pode proporcionar uma excelente uniformidade, o que é essencial para o fabrico de películas que exigem uma espessura e uma qualidade de superfície rigorosas.
O equipamento de feixe de iões não é apenas utilizado para gravação, mas também para deposição assistida, como a deposição assistida por feixe de iões (IBAD), o que o torna altamente flexível para a preparação de películas com propriedades especiais, como os revestimentos de carbono tipo diamante (DLC).
Os feixes de iões podem ser utilizados para limpar e gravar substratos, removendo os contaminantes da superfície e proporcionando uma melhor condição de superfície para posterior deposição ou ligação.
A tecnologia de feixe de iões é adequada para vários materiais, incluindo metais, cerâmicas e semicondutores, o que oferece um vasto potencial de aplicação em diferentes indústrias.
Ao controlar com precisão os parâmetros do feixe de iões, podem ser geradas películas de elevada pureza com defeitos reduzidos, o que é crucial para o fabrico de componentes electrónicos e ópticos de elevado desempenho.
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