Это высококлассное оборудование для подготовки сверхточных оптоэлектронных устройств. Ориентируясь на высококачественное оптическое покрытие, оно имеет чрезвычайно низкое значение рассеяния и плотность дефектов.
Ионно-лучевое травление (ИЛТ) - это метод травления тонких пленок, в котором используется источник ионов для проведения процессов удаления материала с подложки. ИБТ является разновидностью ионно-лучевого напыления и, независимо от того, используется ли оно для...
Ионно-лучевое оборудование играет чрезвычайно важную роль в высокотехнологичных отраслях промышленности благодаря таким своим преимуществам, как высокая точность, низкий уровень повреждений, универсальность и экологичность, особенно в таких областях, как микро-нанопроизводство, материаловедение и прецизионная оптика.
Ионно-лучевое оборудование обеспечивает чрезвычайно высокую точность позиционирования и контроль энергии, что делает возможной обработку на наноуровне. Фокусирующая способность ионного пучка позволяет осуществлять точное травление или осаждение материалов, что крайне важно для производства микроэлектроники, нанотехнологий и оптических компонентов.
По сравнению с традиционной механической или термической обработкой, обработка ионным пучком наносит меньший ущерб материалам. Поскольку ионный пучок воздействует на поверхность с контролируемой энергией, он уменьшает зону теплового воздействия и позволяет избежать перегрева подложки, тем самым сохраняя присущие материалу свойства.
Ионно-лучевое травление позволяет добиться селективного удаления конкретных материалов, что особенно важно для тонкой обработки многослойных структур, позволяя точно удалять верхние материалы, не повреждая нижележащие слои.
При обработке больших площадей ионно-лучевое оборудование может обеспечить превосходную однородность, что очень важно для производства пленок, требующих строгого соблюдения толщины и качества поверхности.
Ионно-лучевое оборудование используется не только для травления, но и для вспомогательного осаждения, такого как осаждение с помощью ионного пучка (IBAD), что делает его очень гибким для подготовки пленок со специальными свойствами, таких как покрытия из алмазоподобного углерода (DLC).
Ионные пучки могут использоваться для очистки и травления подложек, удаляя поверхностные загрязнения и обеспечивая лучшее состояние поверхности для последующего осаждения или склеивания.
Технология ионного пучка подходит для работы с различными материалами, включая металлы, керамику и полупроводники, что обеспечивает широкий потенциал применения в различных отраслях промышленности.
Точное управление параметрами ионного пучка позволяет получать высокочистые пленки с уменьшенным количеством дефектов, что очень важно для производства высокопроизводительных электронных и оптических компонентов.
Rm3A08 (4 этаж) Блок D, Технологический парк Хуашэнтай, №36 Хангконг Роуд, район Баоань, город Шэньчжэнь, Китай
© 2025 Все права защищены.